光刻机用于:集成电路，半导体，光电子器件等的研制和生产。更多型号请咨询国产光刻机，evg光刻机，浸入式光刻机。

光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

在EUV光刻技术方面的滞后性，我国不得不从外国进口价格高昂的成品。

据统计，我国连续多年从西方进口芯片已经超过1万亿人民币，且这个趋势还在不断上涨，比如去年一整年就超过了1万五千亿，可以说集成电路已经成为我国国库公帑流失以及国防经济安全的巨大破洞。

实验生产芯片

所以，此次长春光机所在EUV光刻技术方面取得重大突破，其意义已经不亚于电磁弹射，甚至堪比峨眉发动机。

专家指出，相信进入十四五计划后，中国的发展将不可阻挡，随着国家对芯片领域大幅度投资和持续投入，相信中国的光刻机发展也将最终突破桎梏，其发展也将光明万丈，前程似锦！半导体芯片，是信息化时代的基石，也是当今尖端制造的制高点。全球芯片制造，已经进入10纳米到7纳米器件的量产时代。中国自主研发的第一台7纳米刻蚀机，是芯片制造和微观加工最核心的设备之一。它采用等离子体刻蚀技术——利用有化学活性的等离子体，在硅片上雕刻出微观电路。7纳米，相当于发丝直径的万分之一。这是目前人类能够在大生产线上制造出的最小的集成电路布线间距，接近微观加工的极限！而此前，中国内地的芯片制造，仅停留在28纳米的量产水平。如今，中国芯片制造装备，终于与世界最先进水平同步！

网友@ 靓仔集团董事长表示：“全球就只有他家能生产的出来，没有人做的出来。而且还不卖给中国。中国出多少钱都不卖。毛利1000%都可以。这个是在芯片里面画电路的，都是几纳米，大概是头发丝的万分之一大小电路，你说牛B不。”

那么，到底什么设备这么牛？

答案：光刻机

光刻机是芯片制造的核心设备之一，是制造大规模集成电路的核心装备，芯片生产厂商要想成功地制造出芯片来，就一定要用到光刻机。

高端光刻机则可以说是全球最为精密的仪器，并有号称“现代光学工业之花”。目前，全球仅有极少数的光刻机设备厂商能够研制出高端光刻机，其核心技术长期被荷兰、日本、德国等把持。

ASML一家独大，英特尔、台积电都得看它脸色！

过去，日本的佳能和尼康也研制光刻机。为防止过度依赖ASML，英特尔曾有意扶持佳能和尼康，无赖两家日企不争气，在全球光刻机市场中的份额逐渐被ASML蚕食，佳能现在基本已放弃了光刻机业务，尼康也处于苟延残喘中。

目前，光刻机领域的龙头老大是荷兰ASML，已占据了全球80%的市场份额，基本垄断了高端光刻机（EUV光刻机）市场，且全球仅仅ASML能够生产。

尤其在14及16 奈米制程阶段，包括英特尔、三星、台积电等各家代工厂的极紫外线光刻机都来自ASML。

为英特尔承运ASML光刻机的空桥744F

2016年，ASML独家销售了139台光刻机，极紫外光刻机卖出了四台，单台平均售价达1.1亿美元。

高度难产，一年只产12台

由于生产EUV光刻机需要超高成本及高精尖技术，ASML年产量只有12台，相当于每个月只能生产出一台。即便如此，ASML在2018之前的产能也早已被订光光。为了让产能跟上需求，ASML目前正在快马加鞭提升生产效率，预计到2018年可增加到24台，2019年达到40台产能。

截止到2017年第二季度，ASML已拿到8台最新光刻机订单，未交付的订单累计27台，其中有5台由台积电预订，费款高达5.5亿美元，几乎可以购买两架全球最大的四发双层客机空客A380

为什么不卖给中国？

作为集成电路制造过程中最核心的设备，光刻机至关重要，芯片厂商想要提升工艺制程，没有它万万不行，中国半导体工艺为啥提升不上去，光刻机被禁售是一个主要因素。

这么昂贵的设备，为什么不卖给中国呢？这就要提到《瓦森纳协定》。光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。也正是因此，能生产高端光刻机的厂商非常少，到最先进的14nm光刻机就只剩下ASML，日本佳能和尼康已经基本放弃第六代EUV光刻机的研发。

相比之下，国内光刻机厂商则显得非常寒酸，处于技术领先的上海微电子装备有限公司已量产的光刻机中性能最好的是90nm光刻机，制程上的差距就很大……国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。

这不仅使国内晶圆厂要耗费巨资购买设备，对产业发展和自主技术的成长也带来很大不利影响--ASML在向国内晶圆厂出售光刻机时有保留条款，那就是禁止用ASML出售给国内的光刻机给国内自主CPU做代工--只要中芯国际、华力微等晶圆厂采购的ASML光刻机，虽然不影响给ARM芯片做代工，但却不可能给龙芯、申威等自主CPU做代工、商业化量产。即便是用于科研和国 防领域的小批量生产，也存在一定风险--采用陶瓷加固封装、专供军用的龙芯3A1500和在党政军市场使用的龙芯3A2000，只能是小批量生产，而且在宣传上 也只能含糊其辞的说明是境内流片……这很大程度上影响了自主技术和中国集成电路产业的发展。

中国的光刻机发展水平如何

2016年，清华大学召开了“光刻机双工件台系统样机研发”项目验收会，专家组对项目任务完成情况予以高度评价，并一致同意该项目通过验收。

工件台系统是光刻机的重要子系统，工件台系统的运行速度、加速度、系统稳定性和系统的定位建立时间对光刻机的生产精度和效率起着至关重要的作用。本次“光刻机双工件台系统样机研发”项目验收，标志中国在双工件台系统上取得技术突破，但这仅仅是实现光刻机国产化万里长征的一部分，距离打破ASML的技术垄断还有很长的路要走。

日前，“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项实施管理办公室组织专家，在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所召开了“极紫外光刻关键技术研究”项目验收会。评审专家组充分肯定了项目取得的一系列成果，一致同意项目通过验收，认为该项目的顺利实施将我国极紫外光刻技术研发向前推进了重要一步。

极紫外光刻光学技术代表了当前应用光学发展最高水平，作为前瞻性EUV光刻关键技术研究，项目指标要求高，技术难度大、瓶颈多，创新性高，同时国外技术封琐严重

因此我们看到，中国也是取得了很大的进步的。但是中国想要赶上，绝不是一朝一夕的事，需要各类基础领域扎实的人才，这也是最难的。

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