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磁控溅射模具主要用于磁控溅射样品固定或托盘类的治具，起到固定磁控溅射样品的作用[更多]
磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜[更多]
磁控溅射模具主要用于磁控溅射样品固定或托盘类的治具，起到固定磁控溅射样品的作用[更多]
